Abstract

The a-SiNx:H with a large bandgap of 3.8 eV was utilized to decorate ZnO nanowires. The UV emission from the a-SiNx:H-decorated ZnO nanowires are greatly enhanced compared with the undecorated ZnO nanowire. The deep-level defect emission has been completely suppressed even though the sample was annealed at temperatures up to 400 °C. The incorporation of H and N is suggested to passivate the defect states at the nanowire surface and thus result in the flat-band effect near ZnO surface as well as reduction of the nonradiative recombination probability.

© 2012 Optical Society of America

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
    [CrossRef]
  2. Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
    [CrossRef]
  3. S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
    [CrossRef]
  4. B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
    [CrossRef]
  5. H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
    [CrossRef]
  6. M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 106, 071101 (2009).
    [CrossRef]
  7. J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
    [CrossRef]
  8. C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
    [CrossRef]
  9. K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
    [CrossRef]
  10. C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
    [CrossRef]
  11. L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
    [CrossRef]
  12. C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
    [CrossRef]
  13. X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
    [CrossRef]
  14. A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
    [CrossRef]
  15. P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
    [CrossRef]
  16. T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
    [CrossRef]
  17. J. Tauc, Amorphous and Liquid Semiconductors (Springer, 1974).
  18. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
    [CrossRef]
  19. J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
    [CrossRef]
  20. F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
    [CrossRef]

2011 (3)

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

2010 (2)

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

2009 (3)

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 106, 071101 (2009).
[CrossRef]

2008 (2)

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

2007 (2)

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

2005 (1)

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

2004 (1)

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

2002 (2)

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
[CrossRef]

2001 (1)

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

1997 (1)

F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
[CrossRef]

1996 (1)

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Cen, M. J.

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

Chan, W. K.

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Chan, Y. F.

B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
[CrossRef]

Cheah, K. W.

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Chen, C. Y.

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

Chen, H.-P.

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

Chen, R.

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

Chen, S.-Y.

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

Chernyak, L.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Choi, H.-J.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Choy, W. C. H.

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Chu, S.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Djurišic, A. B.

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Feick, H.

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Gai, Y.

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

Giorgis, F.

F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
[CrossRef]

Gutowski, J.

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

Hark, S.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

He, J. H.

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

He, R.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Huang, M. H.

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Johnson, J.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Jokela, S. J.

M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 106, 071101 (2009).
[CrossRef]

Khedoe, R.

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Kim, D. S.

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

Kind, H.

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Koenderink, A. F.

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Kong, J.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Kuo, C.-L.

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

Kuo, T.-J.

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

Leung, Y. H.

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Li, H.-Y.

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Li, J.

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

Li, L.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Li, Q.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Li, X. H.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Liao, H.-C.

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

Lin, C. A.

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

Lin, C.-C.

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

Lin, C.-N.

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

Lin, G. R.

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

Lin, Y.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Liu, C. Y.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Liu, J.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Liu, K. W.

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

Liu, Y.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Liu, Y. C.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Ma, J. G.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Mao, S.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

McCluskey, M. D.

M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 106, 071101 (2009).
[CrossRef]

Meng, X.

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

Morris, N.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Mu, R.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Peng, H.

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

Peng, L.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Pham, J.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Pirri, C. F.

F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
[CrossRef]

Ren, J.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Richters, J.-P.

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

Ruckmann, I.

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

Ruhle, S.

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Russo, R.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Saykally, R.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Scholz, R.

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

Seager, C. H.

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Shi, L.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Sun, H. D.

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

Tallant, D. R.

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Tauc, J.

J. Tauc, Amorphous and Liquid Semiconductors (Springer, 1974).

Tresso, E.

F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
[CrossRef]

Vanheusden, K.

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Vanmaekelbergh, D.

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Voigt, J. A.

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Voss, T.

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

Wang, G.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Wang, N.

B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
[CrossRef]

Wang, S.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Wang, W.

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

Wang, Z. L.

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

Warren, W. L.

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

Weber, E.

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Wischmeier, L.

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

Wong, K.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Wu, T.

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

Wu, Y.

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Xing, G. Z.

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

Xu, H. Y.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Xu, S.

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

Xu, Y.

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

Yan, H.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Yang, P.

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Yang, Q.

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

Yao, B. D.

B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
[CrossRef]

Zacharias, M.

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

Zhang, X. T.

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

Zhao, J.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Zhou, W.

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Adv. Funct. Mater. (1)

P. Yang, H. Yan, S. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, N. Morris, J. Pham, R. He, and H.-J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
[CrossRef]

Appl. Phys. Lett. (7)

K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 68, 403 (1996).
[CrossRef]

K. W. Liu, R. Chen, G. Z. Xing, T. Wu, and H. D. Sun, Appl. Phys. Lett. 96, 023111 (2010).
[CrossRef]

C. Y. Liu, H. Y. Xu, J. G. Ma, X. H. Li, X. T. Zhang, Y. C. Liu, and R. Mu, Appl. Phys. Lett. 99, 063115 (2011).
[CrossRef]

C.-C. Lin, H.-P. Chen, H.-C. Liao, and S.-Y. Chen, Appl. Phys. Lett. 86, 183103 (2005).
[CrossRef]

B. D. Yao, Y. F. Chan, and N. Wang, Appl. Phys. Lett. 81, 757 (2002).
[CrossRef]

J.-P. Richters, T. Voss, L. Wischmeier, I. Rűckmann, and J. Gutowski, Appl. Phys. Lett. 92, 011103 (2008).
[CrossRef]

A. B. Djurišić, Y. H. Leung, W. C. H. Choy, K. W. Cheah, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 84, 2635 (2004).
[CrossRef]

Chem. Mater. (1)

T.-J. Kuo, C.-N. Lin, C.-L. Kuo, and M. H. Huang, Chem. Mater. 19, 5143 (2007).
[CrossRef]

J. Appl. Phys. (1)

M. D. McCluskey and S. J. Jokela, J. Appl. Phys. 106, 071101 (2009).
[CrossRef]

J. Phys. Chem. C (1)

X. Meng, H. Peng, Y. Gai, and J. Li, J. Phys. Chem. C 114, 1467 (2010).
[CrossRef]

Nano Lett. (3)

L. Shi, Y. Xu, S. Hark, Y. Liu, S. Wang, L. Peng, K. Wong, and Q. Li, Nano Lett. 7, 3559 (2007).
[CrossRef]

H.-Y. Li, S. Ruhle, R. Khedoe, A. F. Koenderink, and D. Vanmaekelbergh, Nano Lett. 9, 3515 (2009).
[CrossRef]

Q. Yang, W. Wang, S. Xu, and Z. L. Wang, Nano Lett. 11, 4012 (2011).
[CrossRef]

Nanotechnology (2)

C. Y. Chen, C. A. Lin, M. J. Cen, G. R. Lin, and J. H. He, Nanotechnology 20, 185605 (2009).
[CrossRef]

J.-P. Richters, T. Voss, D. S. Kim, R. Scholz, and M. Zacharias, Nanotechnology 19, 305202 (2008).
[CrossRef]

Nat. Nanotechnol. (1)

S. Chu, G. Wang, W. Zhou, Y. Lin, L. Chernyak, J. Zhao, J. Kong, L. Li, J. Ren, and J. Liu, Nat. Nanotechnol. 6, 506 (2011).
[CrossRef]

Science (1)

M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Yan, Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, and P. Yang, Science 292, 1897 (2001).
[CrossRef]

Thin Solid Films (1)

F. Giorgis, C. F. Pirri, and E. Tresso, Thin Solid Films 307, 298 (1997).
[CrossRef]

Other (1)

J. Tauc, Amorphous and Liquid Semiconductors (Springer, 1974).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.


Metrics