Abstract

We have developed a multilayer mirror for extreme ultraviolet (EUV) radiation that has low reflectance for IR radiation at 10.6μm wavelength. The mirror is based on a multilayer coating comprising alternating layers of diamondlike carbon and silicon, for which we demonstrate an EUV reflectance of up to 49.7%. We have made a functional prototype in which the multilayer coating is included as part of an antireflection coating for IR radiation, resulting in reflectance values of 42.5% and 4.4% for EUV and IR, respectively. The mirror can replace a standard Mo/Si mirror in an EUV lithography tool to form an efficient solution for the suppression of unwanted CO2 laser radiation.

© 2009 Optical Society of America

Full Article  |  PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. V. Banine and R. Moors, J. Phys. D 37, 3207 (2004).
    [CrossRef]
  2. V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.
  3. M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
    [CrossRef]
  4. W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
    [CrossRef]
  5. A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 7271, 72713B (2009).
    [CrossRef]
  6. M. M. J. W. van Herpen, R. W. E. van de Kruijs, D. J. W. Klunder, E. Louis, A. E. Yakshin, S. A. van der Westen, F. Bijkerk, and V. Banine, Opt. Lett. 33, 560 (2008).
    [CrossRef] [PubMed]
  7. PXRMS Multilayer Survey Results, http://henke.lbl.gov/multilayer/survey.html.
  8. M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
    [CrossRef]
  9. L. Holland and S. M. Ojha, Thin Solid Films 48, L21 (1978).
    [CrossRef]
  10. D. L. Windt, Comput. Phys. 12, 360 (1998).
    [CrossRef]
  11. P. Gawlitza, Fraunhofer IWS Annual Report (Fraunhofer IWS, 2007), p. 56.
  12. S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
    [CrossRef]
  13. F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
    [CrossRef]
  14. L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
    [CrossRef]
  15. F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
    [CrossRef]
  16. R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
    [CrossRef]

2009 (2)

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 7271, 72713B (2009).
[CrossRef]

2008 (3)

M. M. J. W. van Herpen, R. W. E. van de Kruijs, D. J. W. Klunder, E. Louis, A. E. Yakshin, S. A. van der Westen, F. Bijkerk, and V. Banine, Opt. Lett. 33, 560 (2008).
[CrossRef] [PubMed]

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

2005 (1)

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

2004 (3)

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

V. Banine and R. Moors, J. Phys. D 37, 3207 (2004).
[CrossRef]

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

2003 (1)

F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
[CrossRef]

1998 (1)

D. L. Windt, Comput. Phys. 12, 360 (1998).
[CrossRef]

1994 (1)

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

1978 (1)

L. Holland and S. M. Ojha, Thin Solid Films 48, L21 (1978).
[CrossRef]

Banine, V.

Banine, V. Y.

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Benoit, N.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Bibishkin, M. S.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

Bijkerk, F.

Bottger, T.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Braun, S.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Chandhok, M.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Chkhalo, N. I.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

Dietsch, R.

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

Fang, M.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Fechner, R.

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

Feigl, T.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Flamm, D.

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

Foltyn, T.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Frost, F.

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

Gawlitza, P.

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

P. Gawlitza, Fraunhofer IWS Annual Report (Fraunhofer IWS, 2007), p. 56.

Gusev, S. A.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

Herpen, M. M. J. W.

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

Holland, L.

L. Holland and S. M. Ojha, Thin Solid Films 48, L21 (1978).
[CrossRef]

Jak, M. J. J.

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Kaiser, N.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Kluenkov, E. B.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Klunder, D. J. W.

Leson, A.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

Lopatin, A. Y.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Louis, E.

Lu, C.

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Luchin, V. I.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Menzel, M.

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

Moors, R.

V. Banine and R. Moors, J. Phys. D 37, 3207 (2004).
[CrossRef]

Mullender, S.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Ojha, S. M.

L. Holland and S. M. Ojha, Thin Solid Films 48, L21 (1978).
[CrossRef]

Pestov, A. E.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

Puik, E. J.

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Salashchenko, N. N.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Schadlich, S.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Schindler, A.

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

Schlatmann, R.

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Scholze, F.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
[CrossRef]

Shmaenok, L. A.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Soer, W. A.

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Tsybin, N. N.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Tummler, J.

F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
[CrossRef]

Ulm, G.

F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
[CrossRef]

van de Kruijs, R. W. E.

van den Boogaard, A. J. R.

A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 7271, 72713B (2009).
[CrossRef]

van der Westen, S. A.

van Goor, F. A.

A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 7271, 72713B (2009).
[CrossRef]

van Herpen, M. M. J. W.

van Loyen, L.

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

Vanderwiel, M. J.

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Verhoeven, J.

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Weissbach, D.

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

Windt, D. L.

D. L. Windt, Comput. Phys. 12, 360 (1998).
[CrossRef]

Yakshin, A. E.

Yakunin, A. M.

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

Yulin, S.

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Ziberi, B.

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

Zuev, S. Y.

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

Appl. Phys. A (1)

M. Menzel, D. Weissbach, P. Gawlitza, R. Dietsch, and A. Leson, Appl. Phys. A 79, 1039 (2004).
[CrossRef]

Appl. Surf. Sci. (2)

L. van Loyen, T. Bottger, S. Schadlich, S. Braun, T. Foltyn, A. Leson, F. Scholze, and S. Mullender, Appl. Surf. Sci. 252, 57 (2005).
[CrossRef]

R. Schlatmann, C. Lu, J. Verhoeven, E. J. Puik, and M. J. Vanderwiel, Appl. Surf. Sci. 78, 147 (1994).
[CrossRef]

Comput. Phys. (1)

D. L. Windt, Comput. Phys. 12, 360 (1998).
[CrossRef]

J. Phys. D (1)

V. Banine and R. Moors, J. Phys. D 37, 3207 (2004).
[CrossRef]

Metrologia (1)

F. Scholze, J. Tummler, and G. Ulm, Metrologia 40, S224 (2003).
[CrossRef]

Opt. Lett. (1)

Proc. SPIE (4)

M. S. Bibishkin, N. I. Chkhalo, S. A. Gusev, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, A. E. Pestov, N. N. Salashchenko, L. A. Shmaenok, N. N. Tsybin, and S. Y. Zuev, Proc. SPIE 7025, 702502 (2008).
[CrossRef]

W. A. Soer, M. J. J. Jak, A. M. Yakunin, M. M. J. W. Herpen, and V. Y. Banine, Proc. SPIE 7271, 72712Y (2009).
[CrossRef]

A. J. R. van den Boogaard, E. Louis, F. A. van Goor, and F. Bijkerk, Proc. SPIE 7271, 72713B (2009).
[CrossRef]

S. Yulin, N. Benoit, T. Feigl, N. Kaiser, M. Fang, and M. Chandhok, Proc. SPIE 6921, 692118 (2008).
[CrossRef]

Thin Solid Films (2)

F. Frost, R. Fechner, B. Ziberi, D. Flamm, and A. Schindler, Thin Solid Films 459, 100 (2004).
[CrossRef]

L. Holland and S. M. Ojha, Thin Solid Films 48, L21 (1978).
[CrossRef]

Other (3)

PXRMS Multilayer Survey Results, http://henke.lbl.gov/multilayer/survey.html.

V. Y. Banine, A. M. Yakunin, N. N. Salashchenko, E. B. Kluenkov, A. Y. Lopatin, V. I. Luchin, N. N. Tsybin, L. A. Shmaenok, W. A. Soer, and M. J. J. Jak, presented at International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography, September 28-October 1, 2008, Lake Tahoe, Calif.

P. Gawlitza, Fraunhofer IWS Annual Report (Fraunhofer IWS, 2007), p. 56.

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.


Figures (3)

Fig. 1
Fig. 1

Schematic design of IR-transparent EUV mirror. AR1 and AR2 denote the sets of layers that together act as AR coatings for the front and back sides of the mirror, respectively.

Fig. 2
Fig. 2

Measured EUV reflectance at 5° incidence angle of conventional Mo/Si mirror (dashed curve), 60-period DLC/Si mirror on superpolished Si substrate (dotted curve), and prototype DLC/Si mirror according to Fig. 1 (solid curve).

Fig. 3
Fig. 3

Measured IR reflectance at normal incidence of conventional Mo/Si mirror (dashed curve) and prototype DLC/Si mirror according to Fig. 1 (solid curve).

Metrics