Abstract

We fabricate an ultraviolet photodetector based on a blend of poly (N-vinylcarbazole) (PVK) and 2-tert-butylphenyl-5-biphenyl-1,3, 4-oxadiazole (PBD) using spin coating. The device exhibites a low dark current density of 2.2 \times 10?3 \muA/cm2 at zero bias. The spectral response of the device shows a narrow bandpass characteristic from 300 to 355 nm, and the peak response is 18.6 mA/W located at 334 nm with a bias of -1 V. We also study the performances of photodetectors with different blend layer thicknesses. The largest photocurrent density is obtained with a blend of 90 nm at the same voltage.

© 2011 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).
  2. M. Razeghi and A. Rogalski, J. Appl. Phys. 79, 7433 (1996).
  3. J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).
  4. D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).
  5. K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).
  6. P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).
  7. S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).
  8. S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).
  9. W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).
  10. J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).
  11. D. Ray and K. L. Narasimhan, Appl. Phys. Lett. 91, 093516 (2007).
  12. Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).
  13. Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).
  14. G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).
  15. Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).
  16. B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).
  17. M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

2010 (2)

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

2009 (1)

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

2008 (1)

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

2007 (1)

D. Ray and K. L. Narasimhan, Appl. Phys. Lett. 91, 093516 (2007).

2006 (2)

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

2005 (1)

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

2003 (2)

E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

2002 (1)

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

2001 (2)

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

1997 (1)

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

1996 (2)

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

M. Razeghi and A. Rogalski, J. Appl. Phys. 79, 7433 (1996).

1993 (1)

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Arthur, S.

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Bi, D. F.

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Binari, S.

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Bouazizi, A.

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Brown, D.

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Burr, K.

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Calle, F.

E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).

Campbell, J.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Carrano, J.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Che, G. B.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Chen, L. L.

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Chen, Y. R.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Choopun, S.

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Chu, B.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Cui, Y. C.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Danel, A.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Dietrich, H.

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Dobruchowska, E.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Dupuis, R.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Eiting, C.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Fedison, J.

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

Glowacki, I.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Grudowski, P.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Han, L. L.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Hu, Z. F.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Hu, Z. Z.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Huang, H. Q.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Huo, Z.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

Jaiser, F.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Javadpour, S.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Khalifa, M.

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Kong, Z. G.

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Koolbeck, D.

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Kretchmer, J.

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

Kung, P.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Lee, C. S.

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Li, T.

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

Li, T. L.

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Li, W. L.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Li, X.

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Liang, S.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

Liu, C. B.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Liu, F. J.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Liu, H. H.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Liu, L. H.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Liu, M.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Liu, Y.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

Lu, Y.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

Luszczynska, B.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Maaref, H.

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Marchywka, M.

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Matocha, K.

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Monroy, E.

E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).

Moses, D.

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Narasimhan, K. L.

D. Ray and K. L. Narasimhan, Appl. Phys. Lett. 91, 093516 (2007).

Neher, D.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Omnes, F.

E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).

Ray, D.

D. Ray and K. L. Narasimhan, Appl. Phys. Lett. 91, 093516 (2007).

Razeghi, M.

M. Razeghi and A. Rogalski, J. Appl. Phys. 79, 7433 (1996).

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Rogalski, A.

M. Razeghi and A. Rogalski, J. Appl. Phys. 79, 7433 (1996).

Sandvik, P.

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Saxler, A.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Sharma, R. P.

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Shen, H.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Sheng, H.

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

Su, Z. S.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Sun, J.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Tardy, J.

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Ulanski, J.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Vaufrey, D.

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Venkatesan, T.

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Vispute, R. D.

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Walker, D.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Wang, J. B.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Wang, Q. W.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Wang, Y. S.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Xu, C. H.

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Xu, J.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Yan, F.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Yang, D. F.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Yang, W.

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Yang, X. H.

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

Zhang, D. Y.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Zhang, G.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Zhang, X.

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

Zhang, X. Q.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Zhang, Z. Q.

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Zhao, J. W.

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Zhu, J. Z.

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

Appl. Phys. Lett. (5)

D. Walker, X. Zhang, P. Kung, A. Saxler, S. Javadpour, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. 68, 2100 (1996).

D. Ray and K. L. Narasimhan, Appl. Phys. Lett. 91, 093516 (2007).

Z. G. Kong, W. L. Li, G. B. Che, B. Chu, D. F. Bi, L. L. Han, L. L. Chen, Z. Z. Hu, and Z. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 89, 161112 (2006).

Z. S. Su, W. L. Li, B. Chu, T. L. Li, J. Z. Zhu, G. Zhang, F. Yan, X. Li, Y. R. Chen, and C. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 93, 103309 (2008).

W. Yang, R. D. Vispute, S. Choopun, R. P. Sharma, T. Venkatesan, and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 78, 2787 (2001).

Appl. Surf. Sci. (1)

J. Sun, F. J. Liu, H. Q. Huang, J. W. Zhao, Z. F. Hu, X. Q. Zhang, and Y. S. Wang, Appl. Surf. Sci. 257, 921 (2010).

Diam. Relat. Mater. (1)

S. Binari, M. Marchywka, D. Koolbeck, H. Dietrich, and D. Moses, Diam. Relat. Mater. 2, 1020 (1993).

Electron. Lett. (1)

J. Carrano, T. Li, P. Grudowski, C. Eiting, R. Dupuis, and J. Campbell, Electron. Lett. 33, 1980 (1997).

J. Appl. Phys. (2)

M. Razeghi and A. Rogalski, J. Appl. Phys. 79, 7433 (1996).

B. Luszczynska, E. Dobruchowska, I. Glowacki, J. Ulanski, F. Jaiser, X. H. Yang, D. Neher, and A. Danel, J. Appl. Phys. 99, 024505 (2006).

J. Cryst. Growth. (1)

S. Liang, H. Sheng, Y. Liu, Z. Huo, Y. Lu, and H. Shen, J. Cryst. Growth. 225, 110 (2001).

J. Electrochem. Soc. (1)

P. Sandvik, D. Brown, J. Fedison, K. Matocha, and J. Kretchmer, J. Electrochem. Soc. 152, G199 (2005).

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. (1)

K. Burr, P. Sandvik, S. Arthur, D. Brown, and K. Matocha, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 742, K7.8.1 (2003).

Mat. Sci. Eng. C (1)

M. Khalifa, D. Vaufrey, A. Bouazizi, J. Tardy, and H. Maaref, Mat. Sci. Eng. C 21, 277 (2002).

Org. Electron. (1)

G. Zhang, W. L. Li, B. Chu, Z. S. Su, D. F. Yang, F. Yan, Y. R. Chen, D. Y. Zhang, L. L. Han, J. B. Wang, H. H. Liu, G. B. Che, Z. Q. Zhang, and Z. Z. Hu, Org. Electron. 10, 352 (2009).

Sci. Technol. (1)

E. Monroy, F. Omnes, and F. Calle, Sci. Technol. 18, R33 (2003).

Synth. Met. (1)

Y. C. Cui, L. H. Liu, C. B. Liu, Q. W. Wang, W. L. Li, G. B. Che, C. H. Xu, and M. Liu, Synth. Met. 160, 373 (2010).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.