Abstract

A method of precisely calculating the external applied voltage and the optimum type-II phase matching angles for KTP crystal, which is used as both an intracavity electro-optic (EO) Q-switch and a frequency doubler, is presented. The effective EO coefficient along the phase-matching direction is defined to calculate the half-wave voltage and the quarter-wave voltage, and the precise calculation for the phase matching angles in the condition of KTP crystal optimum second harmonic phase matching is theoretically realized.

© 2006 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, J. Sweetser, and I. A. Walmsley, Opt. Lett. 15, 839 (1990).
  2. P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).
  3. F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).
  4. J. D. Bierlein and C. B. Arweiler, Appl. Phys. Lett. 49, 917 (1986).
  5. X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).
  6. X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).
  7. T. Chuang, A. D. Hays, and H. R. Verdun, Appl. Opt. 33, 8355 (1994).
  8. C. A. Ebbers and S. P. Velsko, Appl. Phys. Lett. 67, 593 (1995).
  9. S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).
  10. X. Lu and S. Chen, Chin. J. Lasers (in Chinese) 26, 321 (1999).
  11. J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).
  12. M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).
  13. P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).
  14. T. Taira and T. Kobayashi, IEEE J. Quantum Electron. 30, 800 (1994).
  15. T. Taira and T. Kobayashi, Appl. Opt. 34, 4298 (1995).
  16. F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).
  17. E. Oryeshko, O. Kollyukh, and E. Venger, in Proceedings of CAOL'2003 1, 114 (2003).
  18. K. Kato, IEEE J. Quantum Electron. 27, 1137 (1991).
  19. J. D. Bierlein and H. Vanherzeele, J. Opt. Soc. Am. B 6, 622 (1989).
  20. J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

2002 (1)

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

2000 (1)

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

1999 (2)

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

X. Lu and S. Chen, Chin. J. Lasers (in Chinese) 26, 321 (1999).

1997 (1)

J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

1995 (4)

T. Taira and T. Kobayashi, Appl. Opt. 34, 4298 (1995).

C. A. Ebbers and S. P. Velsko, Appl. Phys. Lett. 67, 593 (1995).

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

1994 (2)

T. Taira and T. Kobayashi, IEEE J. Quantum Electron. 30, 800 (1994).

T. Chuang, A. D. Hays, and H. R. Verdun, Appl. Opt. 33, 8355 (1994).

1991 (3)

P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).

K. Kato, IEEE J. Quantum Electron. 27, 1137 (1991).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

1990 (1)

1989 (1)

1987 (1)

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

1986 (1)

J. D. Bierlein and C. B. Arweiler, Appl. Phys. Lett. 49, 917 (1986).

1976 (1)

F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).

Arweiler, C. B.

J. D. Bierlein and C. B. Arweiler, Appl. Phys. Lett. 49, 917 (1986).

Basseras, P.

P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, J. Sweetser, and I. A. Walmsley, Opt. Lett. 15, 839 (1990).

Bierlein, J. D.

J. D. Bierlein and H. Vanherzeele, J. Opt. Soc. Am. B 6, 622 (1989).

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

J. D. Bierlein and C. B. Arweiler, Appl. Phys. Lett. 49, 917 (1986).

F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).

Brixner, L. H.

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

Chang, R. P. H.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Chen, F.

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

Chen, S.

X. Lu and S. Chen, Chin. J. Lasers (in Chinese) 26, 321 (1999).

Chuang, T.

Ebbers, C. A.

C. A. Ebbers and S. P. Velsko, Appl. Phys. Lett. 67, 593 (1995).

Feng, L.

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

Ferretti, A.

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

Gier, T. E.

F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).

Gracewski, S. M.

P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).

Hagerman, M. E.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Hagner, G.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Hahn, D. N.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Hays, A. D.

He, S.

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

Horning, K.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Hsu, W. Y.

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

Huang, C.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Huo, Y.

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

Kato, K.

K. Kato, IEEE J. Quantum Electron. 27, 1137 (1991).

Ketterson, J. B.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Kobayashi, T.

T. Taira and T. Kobayashi, Appl. Opt. 34, 4298 (1995).

T. Taira and T. Kobayashi, IEEE J. Quantum Electron. 30, 800 (1994).

Kwok, H. S.

J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

Li, M.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Li, S.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Li, W.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Lu, X.

X. Lu and S. Chen, Chin. J. Lasers (in Chinese) 26, 321 (1999).

Lundquist, P. M.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Miller, R. J. D.

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, J. Sweetser, and I. A. Walmsley, Opt. Lett. 15, 839 (1990).

Ni, W.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Ong, H. C.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Poeppelmeier, K. R.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Qi, J.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Rasch, A.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Rottschalk, M.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Ruske, J.-P.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Shen, D.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Steinberg, S.

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

Sui, Z.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Sun, X. W.

J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

Sweetser, J.

Taira, T.

T. Taira and T. Kobayashi, Appl. Opt. 34, 4298 (1995).

T. Taira and T. Kobayashi, IEEE J. Quantum Electron. 30, 800 (1994).

Vanherzeele, H.

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

J. D. Bierlein and H. Vanherzeele, J. Opt. Soc. Am. B 6, 622 (1989).

Velsko, S. P.

C. A. Ebbers and S. P. Velsko, Appl. Phys. Lett. 67, 593 (1995).

Verdun, H. R.

Walmsley, I. A.

Wang, D.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Wang, S.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Wang, X.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Wang, X. D.

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, J. Sweetser, and I. A. Walmsley, Opt. Lett. 15, 839 (1990).

Wong, G. K.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Xiong, F.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Yang, T.

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Yao, J. Q.

J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

Yuan, X.

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

Zhou, H.

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

Zumsteg, F. C.

F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).

Appl. Opt. (2)

Appl. Phys. Lett. (5)

J. D. Bierlein, A. Ferretti, L. H. Brixner, and W. Y. Hsu, Appl. Phys. Lett. 50, 1216 (1987).

P. M. Lundquist, H. Zhou, D. N. Hahn, J. B. Ketterson, G. K. Wong, M. E. Hagerman, K. R. Poeppelmeier, H. C. Ong, F. Xiong, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 66, 2469 (1995).

C. A. Ebbers and S. P. Velsko, Appl. Phys. Lett. 67, 593 (1995).

X. D. Wang, P. Basseras, R. J. D. Miller, and H. Vanherzeele, Appl. Phys. Lett. 59, 519 (1991).

J. D. Bierlein and C. B. Arweiler, Appl. Phys. Lett. 49, 917 (1986).

Chin. J. Lasers (in Chinese) (1)

X. Lu and S. Chen, Chin. J. Lasers (in Chinese) 26, 321 (1999).

Engineering Science (in Chinese) (1)

F. Chen, Y. Huo, S. He, and L. Feng, Engineering Science (in Chinese) 2, (4) 39 (2000).

IEEE J. Quantum Electron. (2)

K. Kato, IEEE J. Quantum Electron. 27, 1137 (1991).

T. Taira and T. Kobayashi, IEEE J. Quantum Electron. 30, 800 (1994).

J. Appl. Phys. (2)

P. Basseras, R. J. D. Miller, and S. M. Gracewski, J. Appl. Phys. 69, 7774 (1991).

F. C. Zumsteg, J. D. Bierlein, and T. E. Gier, J. Appl. Phys. 47, 4980 (1976).

J. Crystal Growth (1)

X. Wang, X. Yuan, W. Li, J. Qi, S. Wang, and D. Shen, J. Crystal Growth 237-239, 672 (2002).

J. Lightwave Technol. (1)

M. Rottschalk, J.-P. Ruske, K. Horning, S. Steinberg, G. Hagner, and A. Rasch, J. Lightwave Technol. 13, 2041 (1995).

J. Mod. Opt. (1)

J. Q. Yao, X. W. Sun, and H. S. Kwok, J. Mod. Opt. 44, 997 (1997).

J. Opt. Soc. Am. B (1)

J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) (1)

S. Li, W. Ni, T. Yang, D. Wang, C. Huang, Z. Sui, and M. Li, J. Optoelectronics.Laser (in Chinese) 10, 95 (1999).

Opt. Lett. (1)

Other (1)

E. Oryeshko, O. Kollyukh, and E. Venger, in Proceedings of CAOL'2003 1, 114 (2003).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.