Abstract

Determination of the energy range is an important precondition of focus calibration using alignment procedure (FOCAL) test. A new method to determine the energy range of FOCAL off-lined is presented in this paper. Independent of the lithographic tool, the method is time-saving and effective. The influences of some process factors, e.g. resist thickness, post exposure bake (PEB) temperature, PEB time and development time, on the energy range of FOCAL are analyzed.

© 2005 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).
  2. T. E. Adams, Proc. SPIE 1464, 294 (1991).
  3. W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).
  4. B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).
  5. D. G. Flagello and B. Geh, Proc. SPIE 2724, 788 (1996).
  6. T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).
  7. F. Wang, X. Wang, M. Ma, D. Zhang, and W. Shi, Laser & Optoelectronics Progress (in Chinese) 41, (6) 34 (2004).
  8. N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).
  9. H. E. Mayer and E. W. Loebach, Proc. SPIE 811, 149 (1987).
  10. X. Chen, H. Yao, and X. Chen, Chin. Opt. Lett. 2, 187 (2004).
  11. P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).
  12. P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).
  13. G. Bouwhuis and S. Wittekoek, IEEE Trans. Electron. Devices 26, 723 (1979).
  14. N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).
  15. C. A. Mack, Proc. SPIE 538, 207 (1985).

2005 (1)

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

2004 (1)

2001 (2)

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

2000 (1)

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

1996 (2)

P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).

D. G. Flagello and B. Geh, Proc. SPIE 2724, 788 (1996).

1995 (1)

P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).

1994 (1)

E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).

1991 (1)

T. E. Adams, Proc. SPIE 1464, 294 (1991).

1990 (1)

N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).

1987 (1)

H. E. Mayer and E. W. Loebach, Proc. SPIE 811, 149 (1987).

1985 (1)

C. A. Mack, Proc. SPIE 538, 207 (1985).

1979 (1)

G. Bouwhuis and S. Wittekoek, IEEE Trans. Electron. Devices 26, 723 (1979).

Adams, T. E.

T. E. Adams, Proc. SPIE 1464, 294 (1991).

Bakker, H.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Borret, R.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Bouwhuis, G.

G. Bouwhuis and S. Wittekoek, IEEE Trans. Electron. Devices 26, 723 (1979).

Busath, D.

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

Chen, X.

Dirksen, P.

P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).

P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).

Farrar, N. R.

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

Fields, C. H.

E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).

Finders, J.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Flagello, D. G.

D. G. Flagello and B. Geh, Proc. SPIE 2724, 788 (1996).

Fujiwara, K.

N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).

Geh, B.

D. G. Flagello and B. Geh, Proc. SPIE 2724, 788 (1996).

Hagiwara, T.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Heskamp, B.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Higashibata, S.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Inoue, J.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Ishio, N.

N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).

Juffermans, C.

P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).

Kaneko, K.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Kondo, N.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Laat, W. de

P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).

Loebach, E. W.

H. E. Mayer and E. W. Loebach, Proc. SPIE 811, 149 (1987).

Ma, M.

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

Mack, C. A.

C. A. Mack, Proc. SPIE 538, 207 (1985).

Mayer, H. E.

H. E. Mayer and E. W. Loebach, Proc. SPIE 811, 149 (1987).

Megens, H.

P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).

Mizutani, H.

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

Nagata, H.

N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).

Pellens, R.

P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).

Pierrat, C.

E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).

Raab, E. L.

E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).

Roempp, O.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Shi, W.

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

Smith, A. L.

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

Stoeten, J.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Taitano, D.

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

Verstappen, L.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Vleeming, B.

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

Wang, X.

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

Wans, F.

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

Wittekoek, S.

G. Bouwhuis and S. Wittekoek, IEEE Trans. Electron. Devices 26, 723 (1979).

Yao, H.

Zhang, D.

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

Chin. Opt. Lett. (1)

IEEE Trans. Electron. Devices (1)

G. Bouwhuis and S. Wittekoek, IEEE Trans. Electron. Devices 26, 723 (1979).

Proc. SPIE (12)

N. Ishio, K. Fujiwara, and H. Nagata, Proc. SPIE 1264, 578 (1990).

C. A. Mack, Proc. SPIE 538, 207 (1985).

E. L. Raab, C. Pierrat, and C. H. Fields, Proc. SPIE 2197, 550 (1994).

T. E. Adams, Proc. SPIE 1464, 294 (1991).

W. Shi, X. Wang, D. Zhang, F. Wans, and M. Ma, Proc. SPIE 5645, 233 (2005).

B. Vleeming, B. Heskamp, H. Bakker, L. Verstappen, J. Finders, J. Stoeten, R. Borret, and O. Roempp, Proc. SPIE 4346, 634 (2001).

D. G. Flagello and B. Geh, Proc. SPIE 2724, 788 (1996).

T. Hagiwara, H. Mizutani, N. Kondo, J. Inoue, K. Kaneko, and S. Higashibata, Proc. SPIE 4346, 1635 (2001).

N. R. Farrar, A. L. Smith, D. Busath, and D. Taitano, Proc. SPIE 4000, 18 (2000).

H. E. Mayer and E. W. Loebach, Proc. SPIE 811, 149 (1987).

P. Dirksen, W. de Laat, and H. Megens, Proc. SPIE 2440, 701 (1995).

P. Dirksen, R. Pellens, and C. Juffermans, Proc. SPIE 2726, 799 (1996).

Other (1)

F. Wang, X. Wang, M. Ma, D. Zhang, and W. Shi, Laser & Optoelectronics Progress (in Chinese) 41, (6) 34 (2004).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.