Abstract

Highly conducting ZnO:Al (AZO) films are normally prepared through substrate heating and post-annealing in reducing atmosphere, which is deleterious to maintain the high transparency of films and the overall so­lar cell performance. Here we fabricate AZO films through one-step sputtering at room temperature using oxygen-deficient targets prepared via double crucible method. The best-performed AZO film achieves a low resistivity of 4.4 × 10-4 . cm, a high haze factor of 35.0%, and optimizes the efficiency of Cu (In, Ga)Se2 solar cell with a high value of 14.15%. This letter demonstrates that oxygen deficiency can induce high surface texture, conductivity, and boost solar cell performance.

© 2014 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. J. G. Mutitu, S. Shi, C. Chen, T. Creazzo, A. Barnett, C. Hons­berg, and D. W. Prather, Opt. Express 16, 15238 (2008).
  2. R. G. Gordon, MRS Bull. 25, 52 (2000).
  3. Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).
  4. Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).
  5. J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).
  6. K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).
  7. A. Thankappan, S. Thomas, and V. P. N. Nampoori, Chin. Opt. Lett. 11, 101801(2013).
  8. C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).
  9. E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).
  10. G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).
  11. G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).
  12. R. G. S. Pala and H. Metiu, J. Phys. Chem. C 111, 12715 (2007).
  13. J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).
  14. C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).
  15. C. Yang, D. Wan, Z. Wang, and F. Huang, Chin. Opt. Lett. 9, 103102 (2011).
  16. D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).
  17. J. Y. W. Seto, J. Appl. Phys. 46, 5247 (1975).
  18. R. Hong, J. Shao, H. He, and Z. Fan, Chin. Opt. Lett. 3, 428 (2005).
  19. J. F. Chang and M. H. Hon, Thin Solid Films 386, 79 (2001).
  20. F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).
  21. T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).
  22. N. S. Choudhury , J. Electrochem. Soc. 120, 1663 (1973).
  23. T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).
  24. R. Liu, Z. Xia, Y. Wu, H. Jiao, Z. Liang, and J. Zhou, Chin. Opt. Lett. 11, 120501 (2013).

2013

2011

2010

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

2009

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

2008

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

J. G. Mutitu, S. Shi, C. Chen, T. Creazzo, A. Barnett, C. Hons­berg, and D. W. Prather, Opt. Express 16, 15238 (2008).

2007

R. G. S. Pala and H. Metiu, J. Phys. Chem. C 111, 12715 (2007).

2006

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

2005

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

R. Hong, J. Shao, H. He, and Z. Fan, Chin. Opt. Lett. 3, 428 (2005).

2003

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

2002

G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).

2001

J. F. Chang and M. H. Hon, Thin Solid Films 386, 79 (2001).

2000

R. G. Gordon, MRS Bull. 25, 52 (2000).

1999

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

1998

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

1997

K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).

1992

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

1991

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

1989

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

1975

J. Y. W. Seto, J. Appl. Phys. 46, 5247 (1975).

1973

N. S. Choudhury , J. Electrochem. Soc. 120, 1663 (1973).

Agashe, C.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Bagnall, D. M.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

Barnett, A.

Bauhuis, G.

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

Bian, J. M.

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

Blom, F. R.

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

Chang, J. F.

J. F. Chang and M. H. Hon, Thin Solid Films 386, 79 (2001).

Chen, C.

Chen, Y. F.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

Chen, Y. Q.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Choudhury, N. S.

N. S. Choudhury , J. Electrochem. Soc. 120, 1663 (1973).

Cong, C. X.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Creazzo, T.

Dhungel, S. K.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Emanetoglu, N. W.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Fan, Z.

Fang, G. J.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Fang, G. J. J.

G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).

Gordon, R. G.

R. G. Gordon, MRS Bull. 25, 52 (2000).

Gorla, C. R.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Gupta, T. K.

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

Gur, E.

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

He, C. Q.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

He, H.

Hiraga, K.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

Hon, M. H.

J. F. Chang and M. H. Hon, Thin Solid Films 386, 79 (2001).

Hong, R.

Hons­berg, C.

Hu, Y.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Huang, F.

C. Yang, D. Wan, Z. Wang, and F. Huang, Chin. Opt. Lett. 9, 103102 (2011).

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Hupkes, J.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Jiao, H.

Karunagaran, B.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Kim, K. H.

K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).

Kim, S.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Kluth, O.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Koh, H. J.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

Lee, J.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Li, B. H.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Li, D. J.

G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).

Li, X. M.

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

Liang, S.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Liang, Z.

Liu, R.

Lu, Y.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Ma, D. Y.

K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).

Mangalaraj, D.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Mayo, W. E.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Meral, K.

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

Metiu, H.

R. G. S. Pala and H. Metiu, J. Phys. Chem. C 111, 12715 (2007).

Minami, T.

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

Mou, X.

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Mutitu, J. G.

Nampoori, V. P. N.

Ohashi, K.

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

Onganer, Y.

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

Pala, R. G. S.

R. G. S. Pala and H. Metiu, J. Phys. Chem. C 111, 12715 (2007).

Park, I. J.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Park, K. C.

K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).

Park, K. T.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

­Popma, T. J. A.

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

Prather, D. W.

Ramanachalam, M. S.

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

Rech, B.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Rohatgi, A.

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

Sato, H.

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

Schaffer, J. P.

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

Schope, G.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Seto, J. Y. W.

J. Y. W. Seto, J. Appl. Phys. 46, 5247 (1975).

Shao, J.

Shen, D. Z.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Shen, H.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Shi, S.

Siekmann, H.

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

Straub, W. D.

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

Takata, S.

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

Thankappan, A.

Thomas, S.

Tomofuji, T.

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

Tuzemen, S.

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

Vandepol, F. C. M.

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

Wan, D.

C. Yang, D. Wan, Z. Wang, and F. Huang, Chin. Opt. Lett. 9, 103102 (2011).

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Wang, M. J.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Wang, S. J.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Wang, Y.

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Wang, Z.

Wraback, M.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

Wu, Y.

Wu, Y. C.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Xia, Z.

Xie, Y. P.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Xing, G. Z.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Xu, F.

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Yang, C.

Yang, T.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Yao, B.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

Yao, B. L.

G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).

Yao, T.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

Yi, J. S.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Yoo, J.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Yoon, K.

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

Yu, W. D.

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

Zhang, C. Y.

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

Zhao, J. L.

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

Zhou, J.

Zhu, Z. Q.

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

ACS Appl. Mater. Interf.

D. Wan, F. Huang, Y. Wang, X. Mou, and F. Xu, ACS Appl. Mater. Interf. 2, 2147 (2010).

Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process.

E. Gur, S. Tuzemen, K. Meral, and Y. Onganer, Appl. Phys.A: Mater. Sci. Process. 94, 549 (2009).

Appl. Surf. Sci.

Y. Hu, Y. Q. Chen, Y. C. Wu, M. J. Wang, G. J. Fang, C. Q. He, and S. J. Wang, Appl. Surf. Sci. 255, 9279 (2009).

Chin. Opt. Lett.

J. Alloys Compd.

G. Z. Xing, B. Yao, C. X. Cong, T. Yang, Y. P. Xie, B. H. Li, and D. Z. Shen, J. Alloys Compd. 457, 36 (2008).

J. Appl. Phys.

C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).

J. Y. W. Seto, J. Appl. Phys. 46, 5247 (1975).

Y. F. Chen, D. M. Bagnall, H. J. Koh, K. T. Park, K. Hiraga, Z. Q. Zhu, and T. Yao, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998).

T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. 66, 6132 (1989).

K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).

J. Cryst. Growth

T. Minami, H. Sato, K. Ohashi, T. Tomofuji, and S. Takata, J. Cryst. Growth 117, 370 (1992).

J. Electrochem. Soc.

N. S. Choudhury , J. Electrochem. Soc. 120, 1663 (1973).

J. Phys. Chem. C

R. G. S. Pala and H. Metiu, J. Phys. Chem. C 111, 12715 (2007).

MRS Bull.

R. G. Gordon, MRS Bull. 25, 52 (2000).

Opt. Express

Thin Solid Films

J. L. Zhao, X. M. Li, J. M. Bian, W. D. Yu, and C. Y. Zhang, Thin Solid Films 515, 1763 (2006).

J. Yoo, J. Lee, S. Kim, K. Yoon, I. J. Park, S. K. Dhungel, B. Karunagaran, D. Mangalaraj, and J. S. Yi, Thin Solid Films 480, 213 (2005).

C. Agashe, O. Kluth, G. Schope, H. Siekmann, J. Hupkes, and B. Rech, Thin Solid Films 442, 167 (2003).

G. J. J. Fang, D. J. Li, and B. L. Yao, Thin Solid Films 418, 156 (2002).

J. F. Chang and M. H. Hon, Thin Solid Films 386, 79 (2001).

F. R. Blom, F. C. M. Vandepol, G. Bauhuis, and T. J. A. ­Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.