Abstract

In conventional pulsed laser deposition (PLD) technique, plume deflection and composition distribution change with the laser incident direction and pulse energy, then causing uneven film thickness and composition distribution for a multicomponent film and eventually leading to low device quality and low rate of final products. We present a novel method based on PLD for depositing large CIGS films with uniform thickness and stoichiometry. By oscillating a mirror placed coaxially with the incident laser beam, the laser's focus is scanned across the rotating target surface. This arrangement maintains a constant reflectance and optical distance, ensuring that a consistent energy density is delivered to the target surface by each laser pulse. Scanning the laser spot across the target suppresses the formation of micro-columns, and thus the plume deflection effect that reduces film uniformity in conventional PLD technique is eliminated. This coaxial scanning PLD method is used to deposit a CIGS film, 500 nm thick, with thickness uniformity exceeding ±3% within a 5 cm diameter, and exhibiting a highly homogeneous elemental distribution.

© 2014 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).
  2. K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).
  3. P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).
  4. Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).
  5. J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).
  6. A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).
  7. T. Nakada and S. Shirakata, Sol. Energ. Mat. Sol. C 95, 1463 (2011).
  8. C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).
  9. H. Qi, M. Zhu, W. Zhang, K. Yi, H. He, and J. Shao, Chin. Opt. Lett. 10, 013104 (2012).
  10. S. Venkatachalam and Y. Kanno, Curr. Appl. Phys. 9, 1232 (2009).
  11. J. M. Lackner, Sur. Coat. Technol. 200, 1439 (2005).
  12. N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).
  13. M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).
  14. J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995).
  15. A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).
  16. D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).
  17. L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).
  18. C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).
  19. D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).
  20. W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).
  21. N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).
  22. L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).
  23. J. Schou, Appl. Surf. Sci. 255, 5191 (2009).
  24. C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).
  25. X. Ni, K. K. Anoop, M. Bianco, S. Amoruso, X. Wang, T. Li, M. Hu, and Z. Song, Chin. Opt. Lett. 11, 093201 (2013).
  26. T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

2013 (1)

2012 (1)

2011 (4)

T. Nakada and S. Shirakata, Sol. Energ. Mat. Sol. C 95, 1463 (2011).

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).

2010 (2)

Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

2009 (5)

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

J. Schou, Appl. Surf. Sci. 255, 5191 (2009).

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

S. Venkatachalam and Y. Kanno, Curr. Appl. Phys. 9, 1232 (2009).

2007 (1)

N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).

2006 (2)

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).

2005 (2)

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

J. M. Lackner, Sur. Coat. Technol. 200, 1439 (2005).

2004 (1)

D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).

2003 (1)

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

2001 (2)

C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

2000 (1)

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

1999 (1)

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

1996 (1)

A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).

1995 (1)

J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995).

Amoruso, S.

Anoop, K. K.

Bari, F.

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

Bianco, M.

Biegel, W.

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

Bilde-Sorensen, J. B.

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

Bucaro, M. A.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Callahan, J. H.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Chambers, S. A.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Chen, C.

C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).

Cho, Y. S.

Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).

Chrisey, D. B.

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Chung, R.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Cultrera, L.

L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).

D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).

Develos-Bagarinao, K.

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

Droubay, T. C.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Egerhazi, L.

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

Engelhard, M. H.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Felser, C.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Fukutomi, M.

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

Geretovszky, Zs.

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

Greer, J. A.

J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995).

Gremenok, V. F.

A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).

Gruhn, T.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Guido, D.

D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).

Hariskos, D.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

He, H.

Horwitz, J. S.

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

Hu, M.

Huhtinen, H.

H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).

Jackson, P.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Jo, Y. H.

Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).

Kanno, Y.

S. Venkatachalam and Y. Kanno, Curr. Appl. Phys. 9, 1232 (2009).

Kaspar, T. C.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Kawagishi, K.

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

Kindyak, A. S.

A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).

Kindyak, V. V.

A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).

Klarmann, R.

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

Komori, K.

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

Kratzer, P.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Kuhn, M.

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

Lackner, J. M.

J. M. Lackner, Sur. Coat. Technol. 200, 1439 (2005).

Leedy, K. D.

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

Leonhardt, D.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Li, T.

Linderoth, S.

N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

Liu, W.

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

Lotter, E.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Ludwig, C. D. R.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

McGill, R. A.

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Menner, R.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Mohanty, B. C.

Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).

Mslna, T. E.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Nakada, T.

T. Nakada and S. Shirakata, Sol. Energ. Mat. Sol. C 95, 1463 (2011).

Nakagawa, Y.

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

Ni, X.

Nie, J. C.

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

Ong, P. P.

C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).

Paetel, S.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Palonen, H.

H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).

Paturi, P.

H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).

Perrone, A.

L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).

D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).

Pique, A.

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Powalla, M.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Pryds, N.

N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

Qi, H.

Qiao, L.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Ringeisen, B. R.

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

Schey, B.

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

Schilling, T.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Schou, J.

J. Schou, Appl. Surf. Sci. 255, 5191 (2009).

N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).

Shao, J.

Shirakata, S.

T. Nakada and S. Shirakata, Sol. Energ. Mat. Sol. C 95, 1463 (2011).

Shutthanandan, V.

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Song, Z.

Spargo, B. J.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Stritzker, B.

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

Subramanyam, G.

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

Sun, Y.

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

Szorenyi, T.

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

Tabat, M. D.

J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995).

Toftmann, B

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

Togano, K.

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

Tomich, D. H.

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

Vachet, R. W.

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

Varanasi, C. V.

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

Venkatachalam, S.

S. Venkatachalam and Y. Kanno, Curr. Appl. Phys. 9, 1232 (2009).

Wang, H.

C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).

Wang, R.

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

Wang, X.

Windeln, J.

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Wischmann, W.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Wuerz, R.

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Xiao, X. N.

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

Yamasaki, H.

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

Yang, J. J.

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

Yi, K.

Zeifman, M. I.

L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).

Zhang, W.

Zhu, M.

Appl. Phys. Lett. (1)

T. C. Droubay, L. Qiao, T. C. Kaspar, M. H. Engelhard, V. Shutthanandan, and S. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 97, 124105 (2010).

Appl. Sur. Sci. (2)

Y. H. Jo, B. C. Mohanty, and Y. S. Cho, Appl. Sur. Sci. 256, 6819 (2010).

L. Egerhazi, Zs. Geretovszky, T. Szorenyi, and F. Bari, Appl. Sur. Sci. 257, 5324 (2011).

Appl. Surf. Sci. (4)

N. Pryds, J. Schou, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 253, 8231 (2007).

J. Schou, Appl. Surf. Sci. 255, 5191 (2009).

W. Biegel, R. Klarmann, B. Stritzker, B. Schey, and M. Kuhn, Appl. Surf. Sci. 168, 227 (2000).

N. Pryds, B Toftmann, J. B. Bilde-Sorensen, and S. Linderoth, Appl. Surf. Sci. 252, 4882 (2006).

Chem. Rev. (1)

D. B. Chrisey, A. Pique, R. A. McGill, J. S. Horwitz, and B. R. Ringeisen, Chem. Rev. 103, 553 (2003).

Chin. Opt. Lett. (2)

Curr. Appl. Phys. (1)

S. Venkatachalam and Y. Kanno, Curr. Appl. Phys. 9, 1232 (2009).

J. Phys. D Appl. Phys. (1)

J. J. Yang, R. Wang, W. Liu, Y. Sun, and X. N. Xiao, J. Phys. D Appl. Phys. 42, 215305 (2009).

J. Vac. Sci. Technol. A (1)

J. A. Greer and M. D. Tabat, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1175 (1995).

Mat. Lett. (1)

A. S. Kindyak, V. V. Kindyak, and V. F. Gremenok, Mat. Lett. 28, 273 (1996).

Phys. C (1)

M. Fukutomi, K. Komori, K. Kawagishi, and K. Togano, Phys. C 357-360, 1342 (2001).

Phys. Rev. B (1)

L. Cultrera, M. I. Zeifman, and A. Perrone, Phys. Rev. B 73, 075304 (2006).

Phys. Rev. Lett. (1)

C. D. R. Ludwig, T. Gruhn, C. Felser, T. Schilling, J. Windeln, and P. Kratzer, Phys. Rev. Lett. 105, 025702 (2009).

Prog. Photovolt Res. Appl. (1)

P. Jackson, D. Hariskos, E. Lotter, S. Paetel, R. Wuerz, R. Menner, W. Wischmann, and M. Powalla, Prog. Photovolt Res. Appl. 19, 894 (2011).

Sol. Energ. Mat. Sol. C (1)

T. Nakada and S. Shirakata, Sol. Energ. Mat. Sol. C 95, 1463 (2011).

Supercond. Sci. Tech. (1)

K. Develos-Bagarinao, H. Yamasaki, J. C. Nie, and Y. Nakagawa, Supercond. Sci. Tech. 18, 667 (2005).

Sur. Coat. Technol. (1)

J. M. Lackner, Sur. Coat. Technol. 200, 1439 (2005).

Surf. Coat. Tech. (1)

D. Guido, L. Cultrera, and A. Perrone, Surf. Coat. Tech. 180-181, 603 (2004).

Thin Solid Films (4)

C. V. Varanasi, K. D. Leedy, D. H. Tomich, and G. Subramanyam, Thin Solid Films 517, 2878 (2009).

A. Pique, R. A. McGill, D. B. Chrisey, D. Leonhardt, T. E. Mslna, B. J. Spargo, J. H. Callahan, R. W. Vachet, R. Chung, and M. A. Bucaro, Thin Solid Films 355-356, 536 (1999).

C. Chen, P. P. Ong, and H. Wang, Thin Solid Films 382, 275 (2001).

H. Palonen, H. Huhtinen, and P. Paturi, Thin Solid Films 519, 8058 (2011).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.