Abstract

An echelle diffraction grating based high-resolution spectrometer-on-chip on silicon oxynitride (SiON) waveguide platform operated at a wavelength range of 850 nm is demonstrated. The chip comprises 120 output waveguides with 0.25-nm wavelength channel spacing and has a size of only 11 × 6 (mm). The experimental results show that the insertion loss is -14 dB, the measured adjacent channel crosstalk is less than -25 dB, the 3 dB channel bandwidth is < 0.1 nm, and the channel non-uniformity is 3 dB for 56 channels with a wavelength ranging from 838 to 852 nm.

© 2013 Chinese Optics Letters

PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).
  2. L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).
  3. P. Cheben, J. H. Schmid, A. Delage, A. Densmore, S. Janz, B. Lamontagne, J. Lapointe, E. Post, P. Waldron, and D.-X. Xu, Opt. Express 15, 2299 (2007).
  4. B. B. Kyotoku, L. Chen, and M. Lipson, Opt. Express 18, 102 (2010).
  5. M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).
  6. N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).
  7. B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).
  8. V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).
  9. J.-J. He, B. Lamontagne, A. Delage, L. Erickson, M. Davis, and E. S. Koteles, J. Lightwave Technol. 16, 631 (1998).
  10. L. Wang, J.-J. He, J. Song, and S. He, J. Lightwave Technol. 24, 3743 (2006).
  11. B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).
  12. J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).
  13. H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).
  14. G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).
  15. J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

2012 (2)

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

2011 (2)

2010 (1)

2008 (1)

K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).

2007 (1)

2006 (2)

L. Wang, J.-J. He, J. Song, and S. He, J. Lightwave Technol. 24, 3743 (2006).

J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

2004 (1)

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

1999 (2)

B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

1998 (1)

1996 (1)

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

1980 (1)

H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

Abe, H.

H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

AKca, B. I.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

Alayo, M. I.

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

Baclig, A. C.

Beulens, J. J.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Caspers, P. J.

Cheben, P.

Chen, L.

Choo-Smith, L. P.

Criado, D.

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

Davies, M.

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

Davis, M.

Delage, A.

Densmore, A.

Doemling, M. F.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Driessen, A.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

Erickson, L.

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

J.-J. He, B. Lamontagne, A. Delage, L. Erickson, M. Davis, and E. S. Koteles, J. Lightwave Technol. 16, 631 (1998).

Goncalves, L. C. D.

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

He, J.-J.

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

L. Wang, J.-J. He, J. Song, and S. He, J. Lightwave Technol. 24, 3743 (2006).

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

J.-J. He, B. Lamontagne, A. Delage, L. Erickson, M. Davis, and E. S. Koteles, J. Lightwave Technol. 16, 631 (1998).

He, S.

Ismail, N.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

Janz, S.

Kalkman, J.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

Kastenmeier, B. E. E.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Kim, B.

B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

Kim, J.-H.

J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

Kim, S. H.

J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

Kodate, K.

K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).

Komai, Y.

K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).

Koteles, E. S.

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

J.-J. He, B. Lamontagne, A. Delage, L. Erickson, M. Davis, and E. S. Koteles, J. Lightwave Technol. 16, 631 (1998).

Kwon, K.-H.

B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

Kyotoku, B. B.

Lamontagne, B.

Lapointe, J.

Leeuwen, T. G. van

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

Li, M.

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

Lipson, M.

Liu, G.

J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

Matsuo, P. J.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Nakata, H.

H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

Nguyen, V. D.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

Nishioka, K.

H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

Oehrlein, G. S.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Park, S.-H.

B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

Pereyra, I.

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

Pollnau, M.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

Post, E.

Puppels, G. J.

Qin, L.

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

Ridder, R. M. de

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

Rueger, N. R.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Schaepkens, M.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Schmid, J. H.

Sengo, G.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

Song, J.

Standaert, T.

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Sun, F.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

Waldron, P.

Wang, L.

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

L. Wang, J.-J. He, J. Song, and S. He, J. Lightwave Technol. 24, 3743 (2006).

Worhoff, K.

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

V. D. Nguyen, B. I. Akca, K. Worhoff, R. M. de Ridder, M. Pollnau, T. G. van Leeuwen, and J. Kalkman, Opt. Lett. 36, 1293 (2011).

N. Ismail, L. P. Choo-Smith, K. Worhoff, A. Driessen, A. C. Baclig, P. J. Caspers, G. J. Puppels, R. M. de Ridder, and M. Pollnau, Opt. Lett. 36, 4629 (2011).

Xu, D.-X.

IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. (1)

B. I. AKca, V. D. Nguyen, J. Kalkman, N. Ismail, G. Sengo, F. Sun, A. Driessen, T. G. van Leeuwen, M. Pollnau, K. Worhoff, and R. M. de Ridder, IEEE J. Select. Topics Quantum Electron. 18, 1223 (2012).

IEEE Photon. Technol. Lett. (2)

L. Qin, L. Wang, M. Li, and J.-J. He, IEEE Photon. Technol. Lett. 24, 954 (2012).

J.-J. He, E. S. Koteles, B. Lamontagne, L. Erickson, A. Delage, and M. Davies, IEEE Photon. Technol. Lett. 11, 224 (1999).

J. Lightwave Technol. (2)

J. Mater. Chem. (1)

J.-H. Kim, G. Liu, and S. H. Kim, J. Mater. Chem. 16, 977 (2006).

J. Non-Cryst. Sol. (1)

M. I. Alayo, D. Criado, L. C. D. Goncalves, and I. Pereyra, J. Non-Cryst. Sol. 338, 76 (2004).

J. Opt. A: Pure Appl. Opt. (1)

K. Kodate and Y. Komai, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 10, 044011 (2008).

J. Vac. Sci. Technol. A (1)

B. Kim, K.-H. Kwon, and S.-H. Park, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 2593 (1999).

J. Vaccum Sci. Technol. (1)

H. Nakata, K. Nishioka, and H. Abe, J. Vaccum Sci. Technol. 17, 1351 (1980).

Opt. Express (2)

Opt. Lett. (2)

Plasma Sources Sci. Technol. (1)

G. S. Oehrlein, P. J. Matsuo, M. F. Doemling, N. R. Rueger, B. E. E. Kastenmeier, M. Schaepkens, T. Standaert, and J. J. Beulens, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 193 (1996).

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.