Abstract

Many modern compact soft-x-ray and extreme-ultraviolet (EUV) imaging systems operate with small fields of view and therefore benefit from the use of small high-brightness sources. Such systems include water-window microscopes and EUV lithography tools. We show that the photon losses in such systems can be minimized while uniformity of object-plane illumination is maintained by controlled scanning of the source. The improved collection efficiency is demonstrated both theoretically and experimentally for a scanned laser-plasma source compared with static sources. A prospective aerial image microscope and a liquid-xenon-jet laser-plasma source are offered as examples of modern imaging tools that may benefit from such scanning of the source.

© 2004 Optical Society of America

Full Article  |  PDF Article

References

  • View by:
  • |
  • |
  • |

  1. M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
    [CrossRef] [PubMed]
  2. G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
    [CrossRef]
  3. W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
    [CrossRef]
  4. D. Stark, K. Dean, P. Gabella, J. Meute, J. Cashmore, M. Whitfield, A. Brunton, P. Gruenewald, M. Gower, “EUV microexposure tool update,” presented at the 1st International EUV Lithography Symposium, Dallas, Tex., 15–17 October 2002; available at http://www.sematech.org .
  5. A. Barty, J.S. Taylor, R. Hudyma, E. Spiller, “Design and evaluation of system configurations for an EUV mask inspection microscope,” Tech. Rep. UCRL-CR-149774 (Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, Calif., 2002); available at http://www.llnl.gov/library/ .
  6. Proceedings of the EUVL Source Workshop, Santa Clara, Calif., 23February2003; available at www.sematech.org .
  7. I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
    [CrossRef]
  8. U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
    [CrossRef]
  9. G. D. Kubiak, L. Bernardez, K. Krenz, “High-power extreme ultraviolet source based on gas jets,” in Emerging Lithographic Technologies II, Y. Vladimirsky, ed., Proc. SPIE3331, 81–89 (1998).
    [CrossRef]
  10. B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
    [CrossRef]
  11. S. McNaught, “NGST/CEO presentation—Laser-produced plasma EUV source program,” presented at the EUV Source Workshop, Santa Clara, Calif., 23 February 2003; available at http://www.sematech.org .
  12. D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.
  13. M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
    [CrossRef]
  14. H. N. Chapman, K. A. Nugent, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, C. A. MacDonald, K. A. Goldberg, J. R. Maldonado, H. H. Chen-Mayer, S. P. Vernon, eds., Proc. SPIE3767, 225–236 (1999).
  15. B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
    [CrossRef]

2004 (1)

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

2002 (1)

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

2000 (1)

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

Ahmad, I.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Anderson, R. J.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Antoni, M.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Ballard, W. P.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Balogh, I.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Barr, P. K.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Berglund, M.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Bernardez, L.

G. D. Kubiak, L. Bernardez, K. Krenz, “High-power extreme ultraviolet source based on gas jets,” in Emerging Lithographic Technologies II, Y. Vladimirsky, ed., Proc. SPIE3331, 81–89 (1998).
[CrossRef]

Bernardez, L. J.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Birner, H.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Blaedel, K. L.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Bolshukhin, D.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Bowering, N. R.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Brudermann, J.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Buchenauer, D. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Campiotti, R. H.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Chapman, H. N.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

H. N. Chapman, K. A. Nugent, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, C. A. MacDonald, K. A. Goldberg, J. R. Maldonado, H. H. Chen-Mayer, S. P. Vernon, eds., Proc. SPIE3767, 225–236 (1999).

Choi, H.-J.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

Darnold, J. R.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

David, C.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

de Vreugde, J. L. V.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Diehl, M.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Enke, S.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Escudero-Sanz, I.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Flohrer, F.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Fomenkov, I. V.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Gbel, K.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Goldberg, K. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Graham, S.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Grunow, P. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Gtze, S.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Gullikson, E. M.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Hale, L. C.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Haney, S. J.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Hansson, B. A. M.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Hemberg, O.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Hergenhan, G.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Hertz, H. M.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Hoffman, J. R.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Holmberg, A.

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

Jacobsson, B.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

Janin, E.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Jefferson, K. L.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Johansson, G. A.

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

Johnson, T. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Khodykin, O. V.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Klebanoff, L. E.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Kleinschmidt, J.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Klpfel, D.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Knight, D.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Korobotchko, V.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Krenz, K.

G. D. Kubiak, L. Bernardez, K. Krenz, “High-power extreme ultraviolet source based on gas jets,” in Emerging Lithographic Technologies II, Y. Vladimirsky, ed., Proc. SPIE3331, 81–89 (1998).
[CrossRef]

Kruizinga, B.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Kubiak, G. D.

G. D. Kubiak, L. Bernardez, K. Krenz, “High-power extreme ultraviolet source based on gas jets,” in Emerging Lithographic Technologies II, Y. Vladimirsky, ed., Proc. SPIE3331, 81–89 (1998).
[CrossRef]

Lafon, R. E.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Lee, S. H.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Leung, A. H.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Melnychuk, S. T.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Michelmann, K.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Mosesson, S.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

Naulleau, P. P.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Ness, R. M.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Niemann, B.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Nugent, K. A.

H. N. Chapman, K. A. Nugent, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, C. A. MacDonald, K. A. Goldberg, J. R. Maldonado, H. H. Chen-Mayer, S. P. Vernon, eds., Proc. SPIE3767, 225–236 (1999).

O’Connell, D. J.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Oliver, I. R.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Perras, Y. E.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Peuker, M.

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

Pierre, R. J. S.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Ponti, S.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Porter, T. L.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Replogle, W. C.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Rettig, C. L.

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

Ringling, J.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Rudolph, D.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Rymell, L.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Schmahl, G.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Schriever, G.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Schultz, J.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Shields, H.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Singer, W.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Smith, T. G.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Sommargren, G. E.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Stamm, U.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Taylor, J. S.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Thieme, J.

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Thoresen, J.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

Tichenor, D. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Tran, C. D.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Wangler, J.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

Wilhein, T.

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

Williams, K. A.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Wilner, M.

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

Wronosky, J. B.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

Ziener, C.

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

Zimmerman, M. D.

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

J. Microsc. (1)

M. Berglund, L. Rymell, M. Peuker, T. Wilhein, H. M. Hertz, “Compact water-window x-ray microscopy,” J. Microsc. 197, 268–273 (2000).
[CrossRef] [PubMed]

Rev. Sci. Instrum. (2)

G. A. Johansson, A. Holmberg, H. M. Hertz, M. Berglund, “Design and performance of a laser-plasma-based compact soft x-ray microscope,” Rev. Sci. Instrum. 73, 1193–1197 (2002).
[CrossRef]

B. A. M. Hansson, O. Hemberg, H. M. Hertz, M. Berglund, H.-J. Choi, B. Jacobsson, E. Janin, S. Mosesson, L. Rymell, J. Thoresen, M. Wilner, “Characterization of a liquid-xenon-jet laser-plasma EUV source,” Rev. Sci. Instrum. 75, 2122–2129 (2004).
[CrossRef]

Other (12)

S. McNaught, “NGST/CEO presentation—Laser-produced plasma EUV source program,” presented at the EUV Source Workshop, Santa Clara, Calif., 23 February 2003; available at http://www.sematech.org .

D. Rudolph, G. Schmahl, B. Niemann, M. Diehl, J. Thieme, T. Wilhein, C. David, K. Michelmann, “Wet specimen imaging with an x-ray microscope with a pulsed plasma source,” in X-Ray Microscopy IV, V. V. Aristov, A. I. Erko, eds. (Bogorodsjii Pechatnik, Chernogolovka, Moscow Region, Russia, 1994), pp. 381–386.

M. Antoni, W. Singer, J. Schultz, J. Wangler, I. Escudero-Sanz, B. Kruizinga, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, W. M. Kaiser, R. H. Stulen, eds., Proc. SPIE4146, 25–34 (2000).
[CrossRef]

H. N. Chapman, K. A. Nugent, “Illumination optics design for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, C. A. MacDonald, K. A. Goldberg, J. R. Maldonado, H. H. Chen-Mayer, S. P. Vernon, eds., Proc. SPIE3767, 225–236 (1999).

B. A. M. Hansson, L. Rymell, M. Berglund, O. Hemberg, E. Janin, J. Thoresen, H. M. Hertz, “Liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography,” in Soft X-Ray and EUV Imaging Systems II, D. A. Tichenor, J. A. Folta, eds., Proc. SPIE4506, 1–8 (2001).
[CrossRef]

W. P. Ballard, D. A. Tichenor, D. J. O’Connell, L. J. Bernardez, R. E. Lafon, R. J. Anderson, A. H. Leung, K. A. Williams, S. J. Haney, Y. E. Perras, K. L. Jefferson, T. L. Porter, D. Knight, P. K. Barr, J. L. V. de Vreugde, R. H. Campiotti, M. D. Zimmerman, T. A. Johnson, L. E. Klebanoff, P. A. Grunow, S. Graham, D. A. Buchenauer, W. C. Replogle, T. G. Smith, J. B. Wronosky, J. R. Darnold, K. L. Blaedel, H. N. Chapman, J. S. Taylor, L. C. Hale, G. E. Sommargren, E. M. Gullikson, P. P. Naulleau, K. A. Goldberg, S. H. Lee, H. Shields, R. J. S. Pierre, S. Ponti, “System and process learning in a full-field, high-power EUVL alpha tool,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE503747–57 (2003).
[CrossRef]

D. Stark, K. Dean, P. Gabella, J. Meute, J. Cashmore, M. Whitfield, A. Brunton, P. Gruenewald, M. Gower, “EUV microexposure tool update,” presented at the 1st International EUV Lithography Symposium, Dallas, Tex., 15–17 October 2002; available at http://www.sematech.org .

A. Barty, J.S. Taylor, R. Hudyma, E. Spiller, “Design and evaluation of system configurations for an EUV mask inspection microscope,” Tech. Rep. UCRL-CR-149774 (Lawrence Livermore National Laboratory, Livermore, Calif., 2002); available at http://www.llnl.gov/library/ .

Proceedings of the EUVL Source Workshop, Santa Clara, Calif., 23February2003; available at www.sematech.org .

I. V. Fomenkov, R. M. Ness, I. R. Oliver, S. T. Melnychuk, O. V. Khodykin, N. R. Bowering, C. L. Rettig, J. R. Hoffman, “Performance and scaling of a dense plasma focus light source for EUV lithography,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 807–821 (2003).
[CrossRef]

U. Stamm, I. Ahmad, I. Balogh, H. Birner, D. Bolshukhin, J. Brudermann, S. Enke, F. Flohrer, K. Gbel, S. Gtze, G. Hergenhan, J. Kleinschmidt, D. Klpfel, V. Korobotchko, J. Ringling, G. Schriever, C. D. Tran, C. Ziener, “High-power EUV lithography sources based on gas discharges and laser-produced plasmas,” in Emerging Lithographic Technologies VII, R. L. Engelstad, ed., Proc. SPIE5037, 119–129 (2003).
[CrossRef]

G. D. Kubiak, L. Bernardez, K. Krenz, “High-power extreme ultraviolet source based on gas jets,” in Emerging Lithographic Technologies II, Y. Vladimirsky, ed., Proc. SPIE3331, 81–89 (1998).
[CrossRef]

Cited By

OSA participates in CrossRef's Cited-By Linking service. Citing articles from OSA journals and other participating publishers are listed here.

Alert me when this article is cited.


Figures (6)

Fig. 1
Fig. 1

Illustration of the simplest form of critical illumination in which the source is imaged onto the mask/object by only one optical element. For simplicity, the optical element is illustrated as a lens, but it may equally well be a mirror or a zone plate.

Fig. 2
Fig. 2

EUV image of a 26-μm FWHM plasma. Dotted curves, intensities along the x and y axes. Solid curves, Gaussian curves of 26-μm FWHM for comparison.

Fig. 3
Fig. 3

(a) Simulations of one large single plasma and (b) integrated image of four small plasmas. The emission uniformity is ±4% within a 20 μm × 20 μm square in both figures.

Fig. 4
Fig. 4

Collection efficiency η, relative to various parameters for a system meeting the étendue specification of the AIM tool. It is given for both single Gaussian plasmas of various sizes (dashed curves) and for four 20-μm plasmas scanned as described in the text (solid curves), where, at each point, the size of the single plasma or the distances among the four plasmas are as small as possible to meet three different uniformity specifications (±2.5%, ±5%, and ±10%). The collection efficiency of a 380-μm FWHM Gaussian plasma is also illustrated (dotted curve).

Fig. 5
Fig. 5

Experimental arrangement illustrating how the xenon jet can be moved in the x direction and the laser focus moved in both the x and the y directions.

Fig. 6
Fig. 6

Experimental result, illustrating the integrated EUV emission distribution of a 26-μm plasma scanned in four positions.

Tables (1)

Tables Icon

Table 1 Comparison of Optical Parameters of Small-Field EUV and Soft-X-Ray Imaging Systems and Typical Compact Plasma Sources

Equations (6)

Equations on this page are rendered with MathJax. Learn more.

étendue=AπNA2.
Bsr=B0 exp-r2 ln 2r1/22,
1-2xB0=B0 exp-l22 ln 2r1/22.
Bsx, y=B04i=-1,1j=-1,1×exp-x+ia2+y+ja2ln 2r1/22,
Po=Ps η T,
η=AeBs dA ΩcPs,

Metrics