10x Reduction Imaging at 13.4 nm
D. A. Tichenor, A. K. Ray-Chaudhuri, G. D. Kubiak, S. J. Haney, K. W. Berger, R. P. Nissen, G. A. Wilkerson, R. H. Stulen, P. H. Paul, R. W. Arling, T. E. Jewell, Edita Tejnil, W. C. Sweatt, W. W. Chow, J. E. Bjorkholm, R. R. Freeman, M. D. Himel, A. A. MacDowell, D. M. Tennant, L. A. Fetter, O. R. Wood, W. K. Waskiewicz, D. L. White, and D. L. Windt
EOS.89 Extreme Ultraviolet Lithography (EUL) 1994 View: PDF