Abstract
© 2018 Chinese Laser Press
PDF ArticleMore Like This
L. Liu, X. F. He, D. L. Yu, Z. B. Shi, J. Lu, F. Xia, D. L. Zheng, N. Zhang, X. X. He, Y. L. Wei, L. G. Zang, Z. C. Yang, L. W. Yan, Yi Liu, and Q. W. Yang
Appl. Opt. 60(11) 3211-3216 (2021)
Tobin Munsat, Calvin W. Domier, Xiangyu Kong, Tianran Liang, Neville C. Luhmann, Jr., Benjamin J. Tobias, Woochang Lee, Hyeon K. Park, Gunsu Yun, Ivo. G. J. Classen, and Anthony J. H. Donné
Appl. Opt. 49(19) E20-E30 (2010)
P. Lee, N. C. Luhmann, H. Park, W. A. Peebles, R. J. Taylor, and C. X. Yu
Appl. Opt. 21(10) 1738-1744 (1982)